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簡要描述：【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置
產品型號：LTS-202廠商性質：生產廠家更新時間：2025-01-16訪 問 量：968| 品牌 | 冠亞制冷 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 產地類別 | 國產 |
| 儀器種類 | 一體式 | 應用領域 | 化工,生物產業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件 |
主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
| 型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴展 | 通過增加電加熱器，擴展-25℃～80℃ | ||||||
集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置
集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置
淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻半導體的設備，廣泛應用于半導體制造工序各種應用場景。以下是淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller的一些常見應用場景：
1、半導體制造
在半導體制造過程中，需要使用大量的半導體設備，如晶圓制造設備、封裝測試設備等。這些設備在工作時會產生大量的熱量，如果熱量控制不當，就會影響設備的性能和穩(wěn)定性。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設備，保證設備的正常運行和生產效率。
2、元器件電子設備
電力電子設備如整流器、逆變器、電源等在工作時會產生大量的熱量，如果熱量控制不當，就會導致設備故障或性能下降。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設備，保證設備的正常運行和穩(wěn)定性。
3、通信設備
通信設備如基站、交換機、路由器等在工作時會產生大量的熱量，如果熱量控制不當，就會影響設備的通信質量和穩(wěn)定性。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設備，保證設備的正常運行和穩(wěn)定性。
總之，淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller在各種應用場景中都發(fā)揮著一定作用，可以保證設備的正常運行和穩(wěn)定性，提高生產效率和質量。
