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半導體循環冷水機Chiller 分析裝置制冷機

簡要描述:【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。半導體循環冷水機Chiller 分析裝置制冷機

  • 產品型號:LTS-202
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-16
  • 訪  問  量:981
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價格區間10萬-50萬產地類別國產
儀器種類一體式應用領域化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件



無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案

主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,

?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。




【 冠亞制冷 】半導體行業主營控溫產品:

半導體專溫控設備

射流式?低溫沖擊測試機

半導體專用溫控設備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統

Chiller直冷型

循環風控溫裝置

半導體?低溫測試設備

電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源

射流式高低溫沖擊測試機

快速溫變控溫卡盤

數據中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內循環液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





半導體循環冷水機Chiller 分析裝置制冷機

半導體循環冷水機Chiller 分析裝置制冷機


  隨著半導體行業技術的發展,半導體行業對設備的要求也越來越高。其中,多晶硅刻蝕雙通道chiller冷卻設備是半導體制造過程中的一種設備,在半導體制造過程中,需要將芯片冷卻到低的溫度,以確保其性能和穩定性。

  其中,多晶硅刻蝕雙通道chiller是一種常見的半導體冷卻設備。它通過將冷卻劑循環使用,將芯片冷卻到所需的溫度范圍。多晶硅刻蝕雙通道chiller的主要功能是提供穩定的溫度控制,以確保芯片在制造過程中的穩定性和可靠性。

  在半導體行業中,多晶硅刻蝕雙通道chiller的應用非常廣泛。它不僅用于制造芯片,還用于制造集成電路、光電子器件和其他半導體器件。此外,多晶硅刻蝕雙通道chiller還可以用于其他領域,如新能源電池電機中進行高低溫測試用等。

  在半導體制造過程中,多晶硅刻蝕雙通道chiller不僅可以提供穩定的溫度控制,還可以減少熱噪聲和熱膨脹等效應,從而提高芯片的性能和穩定性。此外,多晶硅刻蝕雙通道chiller還可以提高生產效率,減少生產成本。

  在選擇半導體行業用多晶硅刻蝕雙通道chiller時,需要考慮多個因素。需要確定所需的冷卻功率和溫度范圍。其次,需要考慮設備的可靠性、穩定性和易用性。另外,需要考慮設備的成本和維護成本。

  總之,半導體行業用多晶硅刻蝕雙通道chiller是半導體制造過程中的一部分。它可以提供穩定的溫度控制,還可以提高生產效率,減少生產成本。因此,選擇合適的半導體行業用多晶硅刻蝕雙通道chiller對于半導體制造企業來說有一定影響。



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