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多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷

簡要描述:【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷

  • 產(chǎn)品型號:LTS-202
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-01-16
  • 訪  問  量:805
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價(jià)格區(qū)間10萬-50萬產(chǎn)地類別國產(chǎn)
儀器種類一體式應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件



無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。




【 冠亞制冷 】半導(dǎo)體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進(jìn)出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴(kuò)展通過增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃





多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷

多晶硅刻蝕單通道chiller 刻蝕工序制冷


半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備(Chiller)主要用于半導(dǎo)體制造過程中準(zhǔn)確控制反應(yīng)室的溫度。半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備利用制冷循環(huán)和工藝?yán)鋮s水的熱交換原理通過對半導(dǎo)體工藝設(shè)備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進(jìn)行控制,以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體工藝制程的控溫需求,是集成電路制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備。


半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備(Chiller)依據(jù)不同工藝制程要求控制給定溫度的循環(huán)液流經(jīng)半導(dǎo)體工藝設(shè)備反應(yīng)腔內(nèi),將熱量帶入半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備,半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備通過熱交換器將熱量傳遞給制冷劑,再通過制冷劑將熱量釋放給工藝?yán)鋮s水,從而實(shí)現(xiàn)對工藝制程的溫度控制。


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